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　　處理這個(gè)矛盾的好的方法便是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋意圖是去除磨光損害層，這一階段應具有大的拋光速率，粗拋構成的表層損害是非必須的考慮，不過(guò)也應當盡可能??；其次是精拋（或稱(chēng)終拋），其意圖是去除粗拋發(fā)生的表層損害，使拋光損害減到小。

　　磨光機拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，留意防止試樣飛出和因壓力太大而發(fā)生新磨痕。同時(shí)還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以防止拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持必定濕度。

　　濕度太大會(huì )削弱拋光的磨痕效果，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相發(fā)生"曳尾"現象；濕度太小時(shí)，因為摩擦生熱會(huì )使試樣升溫，光滑效果減小，磨面失去光澤，甚至呈現黑斑，輕合金則會(huì )拋傷表面。磨光機

　　為了達到粗拋的意圖，要求轉盤(pán)轉速較低，好不要超越600r/min;拋光時(shí)間應當比去掉劃痕所需的時(shí)間長(cháng)些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下調查有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。精拋時(shí)轉盤(pán)速度可適當提高，拋光時(shí)間以?huà)伒舸謷伒膿p害層為宜。